Samsung steht im High-End-Foundry-Bereich vor neuen Herausforderungen: Kürzung des Kaufs von High-NA-EUV-Lithographiemaschinen und Offenlegung der Aussetzung des gemeinsamen Baus eines Forschungszentrums mit ASML

Laut unserer Website vom 20. August hat das koreanische Medienunternehmen Business Korea heute (20. August) einen Blogbeitrag veröffentlicht, in dem es heißt, dass Samsung plant, den Umfang der High-NA-EUV-Beschaffung zu reduzieren, und dass das gemeinsame Forschungszentrumsprojekt mit ASML ebenfalls auf viele gestoßen ist Hindernisse.

Geänderter Inhalt:

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Quelle: ASML Samsung unterzeichnete im Dezember 2023 ein Memorandum of Understanding (MOU) mit ASML zur Einrichtung eines gemeinsamen EUV-Forschungszentrums in der südkoreanischen Hauptstadtregion.
Diese Website zitierte Quellen, die berichteten, dass Samsung ursprünglich den Kauf von Twinscan EXE:5200, EXE:5400 und EXE:5600 drei Nachfolgemodellen Twinscan EXE:5000 High-NA Lithographiemaschinen in den nächsten 10 Jahren geplant hatte Neuester Bericht Es heißt, dass Samsung ASML mitgeteilt hat, dass es nicht nur die Kaufmenge von EUV-Lithografiemaschinen der Twinscan EXE:5000-Serie reduzieren, sondern in Zukunft auch nur noch EXE:5200 kaufen wird.
Berichten zufolge wurde die Entscheidung getroffen, nachdem der stellvertretende Vorsitzende Jun Young-hyun zum neuen Leiter der DS-Abteilung (Device Solutions) ernannt und laufende Projekte und Investitionen überprüft hatte.
Ein Brancheninsider, der mit der Situation vertraut ist, sagte:
Der Prozess des Grundstückskaufs für den Bau einer Forschungseinrichtung in Hwaseong, Provinz Gyeonggi, sowie der Entwurfs- und Genehmigungsprozess waren alle im Gange, als Samsung beschloss, die Einführung von zu reduzieren Gerät wurde der zugehörige Prozess vollständig gestoppt.
Ob die gemeinsame Forschungsstelle an anderer Stelle gegründet wird oder ob die Einrichtung selbst aufgehoben wird, wird in künftigen Gesprächen entschieden.

Das obige ist der detaillierte Inhalt vonSamsung steht im High-End-Foundry-Bereich vor neuen Herausforderungen: Kürzung des Kaufs von High-NA-EUV-Lithographiemaschinen und Offenlegung der Aussetzung des gemeinsamen Baus eines Forschungszentrums mit ASML. Für weitere Informationen folgen Sie bitte anderen verwandten Artikeln auf der PHP chinesischen Website!