Die Hersteller sind zu 100 % ausgelastet und das weltweite Angebot an Halbleiter-Fotomasken übersteigt die Nachfrage

Nachrichten von dieser Website vom 29. November, laut koreanischen Medien The Elec, aufgrund der starken Nachfrage nach Fotomasken von chinesischen Chipherstellern und Wafer-Gießereien hat sich die Knappheit auf dem Fotomaskenmarkt schätzungsweise im Jahr 2024 nicht verringert wird es zu Preiserhöhungen kommen.

Der Bericht wies darauf hin, dass einschließlich Toppan aus Japan, Photronics aus den USA und Dai Nippon Printing

die aktuelle Kapazitätsauslastung der meisten Fotomaskenhersteller bei 100 % Vollauslastung liegt. Sogar einige chinesische Chiphersteller sind bereit, einen Aufpreis zu zahlen, um den Lieferzyklus zu verkürzen.

Hinweis von dieser Seite: Im Bereich der integrierten Schaltkreise ähnelt die Funktion der Fotomaske dem „Negativ“ einer herkömmlichen Kamera. Durch das Zusammenwirken der Fotolithographiemaschine und des Fotolacks wird das entworfene Muster auf der Fotomaske durchbelichtet Belichtung, Entwicklung und andere Prozesse werden auf den Fotolack des Substrats übertragen, um das Bild zu kopieren und so eine Massenproduktion zu erreichen.

Im Herstellungsprozess von Halbleiterchips spielen Fotomasken eine sehr wichtige Rolle, insbesondere in fortgeschrittenen Prozessen erfordern präzisere Schaltkreismuster mehr Schichten von Fotomasken, um die Produktion zu unterstützen. Beispielsweise kann ein ausgereifter Prozess 30 Fotomasken erfordern, während der neueste fortschrittliche Prozess bis zu 70 bis 80 Fotomasken für die Verarbeitung erfordern kann.

SMIC verwendet derzeit DUV zur Herstellung von 7-nm-Chips. Im Vergleich zu EUV erfordert DUV mehrere Fotomasken, um mehrere zu erreichen Herstellung von Schaltungsmustern.

Laut dem neuesten vierteljährlichen Finanzbericht (Juli bis September) von Toppan Printing wird die Nachfrage nach Fotomasken im Jahr 2023 voraussichtlich weiter zunehmen. Dem stimmte auch Dainippon Printing in seinem halbjährlichen Finanzbericht von April bis September zu.

Minsheng Securities Fangjing Research Report geht davon aus, dass mit dem allmählichen Anstieg des Anteils der Halbleiterindustrie meines Landes an der Welt auch die Größe des Marktes für Halbleitermasken meines Landes zunimmt Da auch die heimische Maskenindustrie allmählich expandiert, wird ein weiterhin starkes Wachstum erwartet, und die Hersteller werden voraussichtlich ein schnelles Leistungswachstum verzeichnen.

Die Anforderungen an Mustergröße, Präzision und Fertigungstechnologie von Halbleiter-Fotomasken werden ständig verbessert, und die Lokalisierungsrate von High-End-Fotomasken beträgt nur 3 %. Bei der Herstellung von Fotomasken ist die Halbleitermaskenindustrie meines Landes auch mit der Situation konfrontiert, dass hochwertige Geräte und Materialien von ausländischen Herstellern monopolisiert werden.

In der Fotomasken-Industriekette umfasst der Upstream hauptsächlich Geräte, Substrate, lichtabschirmende Filme und chemische Reagenzien; der Midstream umfasst hauptsächlich Bereiche wie Chips, Flachbildschirme, Touch- und Leiterplatten; Masken Es besteht ein dringender Bedarf an inländischer Substitution, und es besteht immer noch eine große Lücke zwischen dem Umsatzniveau der Fotomaskenhersteller auf dem Festland meines Landes und führenden Herstellern im Ausland. Es wird prognostiziert, dass der Maskenmarkt meines Landes bis 2028 36 Milliarden Yuan erreichen wird. Unter den A-Aktien-Unternehmen hat Luwei Optoelectronics die Massenproduktion von 250-nm-Prozessknoten-Halbleitermasken erreicht und die technischen Kernkompetenzen von 180-nm-/150-nm-Prozessknoten-Halbleitermasken beherrscht Maskenherstellung; Qingyi Optoelectronics hat Kundentests, Zertifizierung und Massenproduktion von 180-nm-Prozessknoten-Halbleiterchipmasken durchgeführt und führt Prozessforschung und -entwicklung von 130-nm-65-nm-Halbleiterchipmasken und Masken durch, die für die Prozessentwicklungsplanung für 28-nm-Halbleiterchips erforderlich sind.

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