Rapidus prévoit de revigorer l'industrie technologique de fabrication de plaquettes après avoir été à la traîne par rapport à l'état de l'art pendant plus de 20 ans. Dans le but de parvenir à une production de masse du procédé EUV de 2 nanomètres le plus rapidement possible d'ici 2025, la société a été créée conjointement avec huit leaders de l'industrie, dont Toyota, Sony et Renesas.
D'après la compréhension de l'éditeur, il est sans aucun doute très difficile de passer directement du processus de fabrication de plaquettes du niveau actuel de 45 nm au processus de 2 nm. Rapidus s'associe à IBM aux États-Unis pour obtenir une licence sur la technologie 2 nanomètres.
Rapidus prévoit d'envoyer 100 ingénieurs chez IBM pour apprendre la technologie des transistors à grille surround GAA nécessaire à la mise en œuvre du processus 2 nm, considéré comme l'un des les technologies clés. Avant avril, Rapidus avait envoyé une équipe d'ingénieurs pour discuter de la coopération avec IBM.
Rapidus prévoit de construire une usine de fabrication de plaquettes à Hokkaido pour atteindre cet objectif. Les travaux de construction devraient débuter en septembre 2023, les infrastructures de l'usine étant achevées et la construction des salles blanches lancée d'ici juin 2024. La société prévoit de commencer l'exploitation expérimentale de la ligne de production en avril 2025 et d'introduire des machines de lithographie EUV et d'autres équipements. Rapidus vise à démarrer la production de masse à grande échelle du processus 2 nm en 2027, soit seulement 1 à 2 ans de retard sur les processus 2 nm de TSMC, Samsung et Intel.
En plus de s'engager dans la production de masse du procédé à 2 nanomètres, Rapidus a également formulé un plan pour atteindre un chiffre d'affaires annuel de 1 000 milliards de yens dans le Années 2030. Équivalent à environ 51 milliards de yuans ou 7,2 milliards de dollars américains.
Le plan de Rapidus visant à relancer l'industrie de la fabrication de plaquettes a attiré beaucoup d'attention. Si la production de masse du procédé 2 nanomètres est réalisée avec succès, cela favorisera considérablement le progrès de l'industrie japonaise des semi-conducteurs et améliorera sa compétitivité sur le marché mondial des semi-conducteurs.
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