Le PDG d'ASML promet de livrer la première machine de lithographie EUV High-NA d'ici la fin de l'année : elle a à peu près la même taille qu'un camion et coûte 300 millions de dollars pièce.

Selon des informations publiées sur ce site Web le 6 septembre, le PDG d'ASML, Peter Wennink, a récemment déclaré dans une interview à Reuters que Malgré certains obstacles de la part des fournisseurs, l'entreprise livrera toujours High d'ici la fin de cette année, conformément au plan précédemment établi. Machine EUV NA.

ASML indique qu'un équipement de lithographie EUV à haute ouverture numérique (High-NA EUV) a à peu près la même taille qu'un camion, et chaque équipement se vend pour plus de 300 millions de dollars américains (Note de ce site : actuellement environ 2,19 milliards de dollars américains) de yuans), peut répondre aux besoins des fabricants de puces de premier rang et fabriquer des puces plus petites et de meilleure qualité au cours de la prochaine décennie.

Wennink a déclaré que certains fournisseurs n'étaient pas en mesure d'améliorer la quantité et la qualité des composants, provoquant ainsi de légers retards, mais que dans l'ensemble ces difficultés peuvent être maîtrisées, et a promis de livrer la première machine avant la fin de cette année.

Ce site a précédemment signalé que pour l'ère post-3 nm, ASML et ses partenaires développent une nouvelle machine de lithographie EUV - Twinscan EXE : série 5000. Cette série de machines aura des lentilles de 0,55 NA (haute NA) et une résolution qui atteindra le taux. 8 nm, évitant ainsi autant que possible les expositions doubles ou multiples dans les nœuds de 3 nm et plus.

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