インテル、将来のインテル 10A ノード、2 台目の高 NA EUV リソグラフィー マシンが登場することを再度確認

本サイトは8月2日、Intel CEOのパット・ゲルシンガー氏が2024会計年度第2四半期財務報告書の発表後の投資家向け電話会議で、まだ正式には発表されていないプロセスノードであるIntel 10Aの存在を改めて認めたと報じた。 。

彼はこう言いました:

インテル 18A に加えて、インテル 14A とインテル 10A の開発も進めています。

…

インテル 4 および 3 の生産能力をアイルランド (量産ウェーハ工場) に移管することで、当社の TD (このサイトの注: テクノロジー開発、テクノロジー開発) チームも 18A にさらに集中し、ノード 14A と10A.

インテルは、今年 2 月の IFS Direct Connect カンファレンスの非公開イベントで初めてインテル 10A プロセスについて正式に言及しました。当時表示されたスライドのスクリーンショットは、Intel 10A が 2028 年から生産能力に貢献すると予想されることを示しました:

既存のプロセス計画によると、Intel 10A は、高 NA EUV を導入するインテルの先進プロセスの第 2 世代になります。 Intel 14A以降のリソグラフィー。

インテル 14A については、パット ゲルシンガー氏は、2025 年までに開始される予定のプロセスは順調に進んでいると主張しました。

インテルの14Aおよび10Aの2世代プロセスをサポートするASML高NA EUVリソグラフィー装置については、インテルが今年4月に世界初の商用高NA EUVリソグラフィー装置の組み立てを完了した後、インテルの2番目の高NA EUVリソグラフィー装置が完成しました。彫刻機もオレゴン州の研究開発工場に到着しようとしています。

以上がインテル、将来のインテル 10A ノード、2 台目の高 NA EUV リソグラフィー マシンが登場することを再度確認の詳細内容です。詳細については、PHP 中国語 Web サイトの他の関連記事を参照してください。