Intel 4プロセスの量産を加速：Intelプロセステクノロジーの加速

インテルは、本日開催されたテクノロジー・イノベーション・サミットで最新のプロセス技術の進歩を発表し、半導体業界にエキサイティングなニュースをもたらしました

インテルの発表によると、インテルはインテル 4 プロセスの開発を加速するためにあらゆる努力を払っています。大量生産では、このプロセスを使用する最初のプロセッサーは新しい Meteor Lake になります。 Intel 4 プロセスは極端紫外線リソグラフィー技術を使用しており、これによりプロセスの歩留まりと面積縮小が大幅に向上し、プロセッサーの高いエネルギー効率パフォーマンスのための強固な基盤が築かれます。同時に、開発中のインテル 3 プロセスは、より高密度の設計ライブラリをもたらし、トランジスタの駆動電流を増加させ、スルーホール抵抗を効果的に低減し、EUV リソグラフィ技術をより広く採用します

編集者の理解によれば、Intel 20A プロセスは、Intel の Amy 時代への参入を示します。このプロセスでは、革新的な RibbonFET および PowerVia テクノロジが導入され、2018 年に発売される予定です。 製造準備は 2024 年前半に完了する予定です。さらに、インテル 18A プロセスは 2024 年後半に完成予定で、インテル 20A プロセスをベースとしており、ワットあたりのパフォーマンスの向上が期待されています。 10% となり、インテルはプロセス ノード分野で主導的な地位を維持することができます。

この一連のプロセス テクノロジのリリースは、半導体製造分野におけるインテルの継続的な進歩を示しており、同社が今後数年間市場での競争力を維持し、増大するテクノロジ ニーズに対応するのに役立ちます。インテルのテクノロジー・イノベーション・サミットは、業界に刺激的な見通しをもたらし、世界的なテクノロジー開発に新たな推進力を注入します。

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