日本はマイクロンEUV製造への補助金を12億9000万ドルに増額

本サイトからのニュース 9 月 30 日の「日本経済新聞」の報道によると、日本の経済産業省はマイクロンの広島工場に対する補助金を 3 億 2,000 万ドルから 12 億 9 千万ドルに増額する予定です (本サイトからの注: 現在、国内の半導体サプライチェーンを強化するため、約94億1,700万米ドル）人民元）。日本政府にとって、この支払いはさまざまな半導体企業への数十億円の投資を含む大規模な計画の一部であり、日本の半導体能力を強化することを目的としている。

このサイトは、マイクロンが 2026 年までに極紫外 (EUV) リソグラフィーに依存する 1γ プロセス (第 3 世代) の使用を開始する予定であることを報道から知りました。 .10nm ノード）は複雑なメモリ チップを大量に生産するため、同社は早急に資金を必要としています。

日本の経済産業省の 2 年間の巨額予算 2 兆円 (133 億 8,500 万ドル) は、半導体投資に関連する補助金に明確に割り当てられています。このうち、TSMCの熊本工場は最大4,760億円（31億8,570万ドル）の資金提供を受け、キオクシアとウエスタンデジタルの協力は929億円（6.21ドル）相当の補助金で支援された。

半導体企業へのこの巨額資本注入は、海外のチップサプライヤーへの依存を減らし、国内の半導体産業を再建するという日本の取り組みを浮き彫りにしている。日本は、主要な技術コンポーネントのスムーズかつ強力な国内供給を確保するための国内能力を強化することにより、国際サプライチェーンの混乱に関連する潜在的なリスクを回避することを目指しています。

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