キヤノン、「ナノインプリント」技術に賭け、価格はASML EUV露光機より「一桁安い」

報道によると、キヤノンは11月6日、新興チップ製造技術であるナノインプリント・リソグラフィー（NIL）に投資しており、新しいチップ製造装置の価格をASMLの最高価格に設定する計画であると発表した。リソグラフィー装置の分野は、最高のリソグラフィー装置の一部に含まれています。

ナノインプリント技術は、極端紫外リソグラフィー (EUV) 技術に代わる低コストの技術です。キヤノンの御手洗富士夫最高経営責任者（CEO）は、同社の最新のナノインプリント技術は小規模チップメーカーが高度なチップを製造する道を開くだろうと語った。

「この製品の価格はASMLのEUVより一桁安くなるでしょう」と88歳の御手洗富士夫氏は語る。同氏は2016年に日常業務から離れて以来、キヤノンの社長としては3期目となる。御手洗冨士夫氏も、最終的な価格はまだ決まっていないという。

ASML は、オランダのフェルドホーフェンに本社を置く企業で、極端紫外線リソグラフィー装置の唯一のサプライヤーです。極端紫外線リソグラフィー装置は、世界で最も先進的なチップ製造装置であり、1 台当たり数億ドルの価値があります。この装置は、数十年にわたる熱心な研究と投資の集大成であり、高速でエネルギー効率の高い先進的なチップを大量生産するために不可欠ですが、極端紫外線を購入できるのは、ほんの一握りの資金力のある企業だけです。これはキヤノンの最新のナノインプリントチップ製造装置に期待をもたらします。

キヤノンの株価は今年初めから27%上昇し、ライバルのニコンの株価も24%上昇している

キヤノンと日本の印刷複合企業である大日本印刷株式会社（大日本印刷とメモリチップメーカーのキオクシアホールディングスは、10年近くにわたってナノインプリント技術の共同開発に取り組んできた。光を反射することで機能する極端紫外線リソグラフィとは異なり、キヤノンが研究しているナノインプリント技術は回路パターンをウエハ上に直接印刷し、最も先進的なノードに匹敵する形状を持つチップを作成するが、速度は遅いと言われている。 。

この新しい装置により、チップメーカーはチップファウンドリへの依存を軽減できると同時に、TSMCやサムスン電子などのチップファウンドリがチップを量産できるようになることが期待されています。キヤノンによれば、この機械はEUV相当品に比べて10分の1の電力しか必要としないという。

御手洗冨士夫氏「ナノインプリント技術がEUVに取って代わるとは思わないが、新たな機会やニーズが生まれると信じている」「お客様から多くのお問い合わせをいただいております」

キヤノンはこれまで通常のチップの製造に注力してきましたが、2014年にナノインプリント技術に多額の投資を開始し、ナノインプリント技術を専門とするMolecular Imprints Inc.を買収しました。キヤノンはTSMCのサプライヤーの1つとして、東京北部の​​宇都宮に20年ぶりとなるリソグラフィー装置の新工場を建設しており、2025年に生産開始される予定である。彼は1935年生まれで、1995年に初めてキヤノンの社長に就任した。彼は会社を経営上の困難から見事に救い出したと評価されています

キヤノンは最近、来年取締役会に加わる新しい取締役グループを任命しました。新しい取締役には、キヤノン米国法人の小川一人最高経営責任者（６５）、産業グループ社長の武井宏明氏（５９）、専務執行役員の浅田稔氏（６１）が含まれる。御手洗冨士夫氏は「後継者を見つけるのは私の責任だ」と述べ、辞任の時期や候補者候補、同社の積極的な新CEO探しなどについてはコメントを避けた。程度などの詳細については。

「完全なサプライズにしたかったのです」と彼は言いました。 「我々のスタッフがまずこの件について聞き、その後記者会見を通じて他のスタッフがそれについて聞くことになるだろう。」 これは「完全なサプライズであることを願っています。」と書き換えることもできるだろう。私たちのスタッフが最初にそのニュースを知り、その後他のスタッフは記者会見を通じてそれを知ります。 ”

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