オランダのリソグラフィー装置大手ASML:来年の中国市場でのビジネスに非常に楽観的
11 月 6 日のこのウェブサイトのニュース。チャイナ デイリーの報道によると、オランダのフォトリソグラフィー大手 ASML のグローバル上級副社長兼中国総統の沈波氏は、CIIE での独占インタビューで、ASML は中国のASML の事業は急速に成長しており、中国が年間を通じて ASML の世界収益の 20% 以上を占めると予想されており、来年の中国での事業についても非常に楽観的です。

沈波氏は「2023 年の中国での採用人数は 200 名を超えるだろう。 2024 年も、事業開発は引き続き多くの需要をもたらすと予想しており、チームの拡大は比較的大規模になるはずです。もちろん、年間計画を立てる必要があります。具体的な数字はまだ検討中です。しかし、成長は
レポートによると、ASML の世界事業における中国の収益シェアは、今年の第 3 四半期に 46% に達しました。年間のパフォーマンスは 20% を超えると予想されており、これは前年に比べて大幅な増加です。沈波氏はまた、1988 年に中国に最初に出荷されたマシンから
まで、2023 年末までに ASML がインストールされていると述べました。中国のフォトリソグラフィー装置と測定装置の生産能力は 1,400 台近くです。最近、米国が最新のチップ輸出規制措置を発表しましたが、量の観点から見ると、今年の ASML 中国の事業量に基づくと、おそらく来年の ASML の事業に 10 ~ 15% の影響があると考えられます。世界の半導体産業は現在、一連の課題に直面しており、一部の専門家は「グローバリゼーションは終わった」とさえ信じています。沈波氏は、半導体業界全体の技術進歩を促進するには、常にグローバルな協力が最も効果的な方法である、あるいはそれが唯一の方法であると信じており、グローバル化だけが業界全体を最も効率的に前進させることができると考えています。現在、ASML の製品のコンポーネントの約 85% は独自に生産されておらず、世界最高のサプライヤーと協力して生産する必要があります ASML は先月第 3 四半期の決算を発表し、純売上高は 67 億でした売上高はユーロ (約 517 億 9,100 万元)、純利益は 19 億ユーロ (約 146 億 8,700 万元) で前四半期に比べ若干減少、売上総利益率は 51.9%
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このウェブサイトの9月6日のニュースによると、ASMLの最高経営責任者ピーター・ウェニンク氏は最近、ロイターとのインタビューで、サプライヤーからのいくつかの障害にもかかわらず、同社は以前に設定された計画に従って今年末までにHighNAEUVマシンを納入する予定であると述べた。 ASMLによると、高開口数EUVリソグラフィー(High-NAEUV)装置はトラックとほぼ同じ大きさで、各装置の販売価格は3億ドル以上(本サイト注:現在約21億9000万元)。メーカーのニーズに応じて、今後 10 年間でより小型でより優れたチップを製造できるようになります。ウェニンク氏は、一部のサプライヤーは部品の量と品質を改善できず、若干の遅れが生じたが、全体的にはこれらの困難は克服できると述べた。

7月1日のニュースによると、編集者の理解によると、リソグラフィー装置のリーダーであるASMLは最近、DUVリソグラフィー装置の輸出承認に関する質問に回答し、関連する規制とスケジュールをさらに明確にしました。 ASML の声明によると、輸出管理規制は DUV リソグラフィー装置の一部の最新モデル、特に TWINSCANNXT:2000i とその後の液浸リソグラフィー システムにのみ適用されます。 EUV露光装置はこれまでも規制があり、他の種類の露光装置の出荷は規制されていなかった。 ASMLは、この管理規制は9月1日に正式に発効し、同社は正常な事業運営を確保するために関連部門にライセンス申請を積極的に提出していると強調した。したがって、9 月 1 日より前に出荷された DUV リソグラフィー装置は影響を受けません。

2月2日の当サイトのニュースによると、ASML最高財務責任者のロジャー・ダッセン氏は最近、オランダの地元メディアBits&Chipsのインタビューに応じた。ダッセン氏はインタビューの中で、分析機関セミアナリシスの疑問に答え、将来的にも高NA(高開口数)EUV(極紫外光)リソグラフィー装置が依然として最も経済的な選択肢であると述べた。 SemiAnalysis は以前、高 NA リソグラフィ技術ではより高い露光量が使用されるため、単位時間あたりのウェーハ スループットが大幅に低下すると主張する記事を発表しました。これは、既存の0.33NA EUV露光機を多重露光で使用する場合と比較して、High-NAを導入しても近い将来コストメリットが得られないことを意味します。ダッセンは認識している

石版印刷機は 1822 年にフランス人ニセフォール ニエプスによって発明されました。最初にニセフォール ニエプスは油紙に彫刻できるマークを発見しました。それがガラス板上に現れると、一定期間露光した後、光透過部分が になります。非常に硬いですが、不透明な部分はロジンと植物油で洗い流すことができます。

韓国のエレクトロニック・ニュース・トゥデイの報道によると、サムスンはASML極紫外(EUV)リソグラフィー装置の輸入を増やす計画であり、契約の機密保持条項には具体的な詳細は開示されていないが、証券市場ニュースによると、この協定により、 ASMLは5年間に計50セットの装備を提供する予定で、各装備の単価は約2000億ウォン(約11億2000万元)、総額は10兆ウォン(約551億元)に達する可能性がある。契約内容は現時点では不明 同製品は既存のEUV露光装置、または次世代「HighNAEUV」露光装置。しかし、現在のEUVリソグラフィー装置の最大の問題は出力の制限です。関係者によると、それは「衛星部品よりも複雑」で、毎年非常に限られた量しか生産できないという。によると

露光装置メーカー ASML は、生産効率の向上を実現する初の新型 EUV 露光装置 TwinscanNXE:3800E の導入に成功したと発表しました。 3 月 13 日のニュースによると、ASML はこの重要な進歩を遂げました。 ▲X プラットフォーム上の ASML の関連開発 このサイトに問い合わせたところ、ASML 公式 Web サイトにはまだ TwinscanNXE:3800E 情報ページが開設されていないことがわかりました。 ASMLは、現在開発中のHigh-NAEUVリソグラフィ装置のTwinscanEXEシリーズに加えて、2025年にNXE:4000Fモデルを発売するという将来の目標に向けて、従来の開口数EUVリソグラフィ装置のNXEシリーズのアップデートとアップグレードも継続している。前 2 世代の NXE シリーズ モデル 3400C および

報道によると、キヤノンは11月6日、新興チップ製造技術であるナノインプリント・リソグラフィー(NIL)に投資しており、新しいチップ製造装置の価格をASMLの最高のリソグラフィー・マシンに設定する計画であると発表した。ナノインプリント技術は、ほんの数分の時間でリソグラフィーを進歩させている極紫外線リソグラフィー (EUV) テクノロジーに代わるコストです。キヤノンの御手洗富士夫最高経営責任者(CEO)は、同社の最新のナノインプリント技術は小規模チップメーカーが高度なチップを製造する道を開くだろうと述べた。御手洗冨士夫氏(88)は「この製品の価格はASMLのEUVより一桁安いだろう」と語った。彼が参事官を務めるのはこれで3度目となる

1月25日のニュースによると、半導体製造装置メーカーASMLが予想を上回る決算を発表し、市場は大きく反応した。受注と売上の急増により、同社の市場価値は一夜にして500億ユーロ増加した。財務報告書によると、ASMLは第4四半期に注文が爆発的に増加し、注文量は第3四半期と比べて250%増加し、26億ユーロから91億9000万ユーロに急増した。このうち、最先端の極端紫外線リソグラフィー装置の受注額は56億ユーロに達し、ハイエンド半導体装置に対する市場の需要が強いことを示しています。編集者の理解によれば、ASML は 2023 年に純売上高が 30% 増加し、276 億ユーロに達すると予想されています。その中でも特に中国市場の貢献が顕著である。 ASML露光装置売上高における中国市場シェア
