メーカーは100%の生産能力で操業しており、半導体フォトマスクの世界的な供給は需要を上回っている

本ウェブサイトの 11 月 29 日のニュース、韓国メディア The Elec によると、中国のチップ製造会社やウェーハファウンドリからのフォトマスクに対する旺盛な需要により、フォトマスク市場の不足は解消されておらず、 価格高騰が続いているとのことです。 2024年に予想されています。

報告書は、日本のトッパン、米国のフォトロニクス、大日本印刷を含むと指摘しました。）、現在、ほとんどの企業がフォトマスクメーカーは 100% の生産能力で操業しています。 一部の中国のチップ企業でさえ、納品サイクルを短縮するために追加料金を支払うことをいとわない。

このサイトからの注: 集積回路の分野では、フォトマスクの機能は従来のカメラの「ネガ」に似ています。フォトリソグラフィー装置とフォトレジストの協力により、設計されたフォトマスクは露光、現像などの工程を経て基板のフォトレジストにパターンを転写し、その画像を転写して量産します。

半導体チップの製造プロセスにおいて、特に高度なプロセスにおいてフォトマスクは非常に重要な役割を果たしますが、回路パターンをより正確にするには、生産を支援するためにより多くのフォトマスクが必要になります。たとえば、成熟したプロセスでは 30 枚のフォトマスクが必要になる場合がありますが、最新の高度なプロセスでは処理に 70 ～ 80 枚ものフォトマスクが必要となる場合があります。

SMIC は現在、7nm チップの製造に DUV を使用していますが、EUV と比較して、DUV はより多くのフォトマスクを必要とします複数の回路パターンの製造を実現します。

凸版印刷の最新四半期財務報告書（7月～9月）によると、フォトマスクの需要は2023年も引き続き強化されると予想されています。大日本印刷も4月から9月までの半期財務報告書でこれに同意した

民生証券方京調査報告書は、世界における我が国の半導体産業の割合が徐々に増加するにつれて、我が国の半導体マスクの生産性も低下すると考えている。市場規模も徐々に拡大しており、国内マスク業界の好調は今後も続くと予想され、各メーカーの業績の急成長が見込まれる。

半導体フォトマスクのパターンサイズ、精度、製造技術の要件は常に増加しており、ハイエンドフォトマスクの局所化率はわずか3%です。我が国の半導体マスク産業も、フォトマスクの製造において、ハイエンドの装置や材料が外国メーカーに独占される状況に直面している。

フォトマスク産業チェーンでは、上流には主に装置、基板、遮光膜、化学試薬が含まれ、中流には主にフォトマスクの製造が含まれ、下流にはチップ、フラットパネルディスプレイ、タッチパネル、タッチスクリーン、およびその他の分野が含まれます。

国産マスクの代替が急務ですが、我が国本土のフォトマスクメーカーと海外の大手メーカーの収益規模には依然として大きな差があります。 2028年までに、我が国のマスク市場は360億元に達すると予測されており、A株企業の中でも、陸威光電子は250nmプロセスノード半導体マスクの量産を達成し、180nm/150nmプロセスノード半導体マスクの製造コア技術力を習得している。 Qingyi Optoelectronicsは、180nmプロセスノードの半導体チップマスクの顧客テスト認証と量産を達成し、130nm-65nm半導体チップマスクのプロセス研究開発と28nm半導体チップの研究開発に必要なマスクプロセス開発計画を実施しています。

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