複合成長率 3.3% で、世界のパワー半導体市場は 2030 年に 550 億米ドルに達すると各機関は推定しています。
本サイトからのニュース 3 月 6 日に市場調査機関 Straits Research が発表した最新レポートによると、2020 年の世界のパワー半導体市場の収益は 400 億米ドルであり、 市場は米国に到達すると推定されています。 2030 年までに 550 億ドル、予測期間中の年間複合成長率は 3.3% です。

- 世界のパワー半導体市場は、異なる材料に基づいて、シリコン/ゲルマニウム、炭化シリコン (SiC)、窒化ガリウム (GaN) の 3 つのカテゴリに分類されます。その中で、シリコン/ゲルマニウムは最大の市場シェアを有しており、将来の予測期間中、年平均成長率1%で成長し続けると予想されています。
- 世界のパワー半導体市場は、エンドユーザー産業ごとに、自動車、家庭用電化製品、ITおよび通信、軍事および航空宇宙、電力、工業およびその他の産業に分類できます。家庭用電化製品が最大の市場シェアを占めており、予測期間中に 2% の CAGR で成長すると予想されます。
- 世界のパワー半導体市場は、地域に基づいて、北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、ラテンアメリカ、中東、アフリカに分類できます。アジア太平洋地域は最大の市場シェアを保持し、今後数年間で年間 3.6% の CAGR で成長すると予想されています。
- レポートの元のアドレスはこの Web サイトに添付されており、興味のあるユーザーは詳細を読むことができます。
以上が複合成長率 3.3% で、世界のパワー半導体市場は 2030 年に 550 億米ドルに達すると各機関は推定しています。の詳細内容です。詳細については、PHP 中国語 Web サイトの他の関連記事を参照してください。

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このウェブサイトの 8 月 6 日のニュースによると、Innolux Corporation のゼネラルマネージャーである Yang Zhuxiang 氏は昨日 (8 月 5 日)、同社は半導体ファンアウトパネルレベルパッケージング (FOPLP) を積極的に導入および促進しており、今後大量の実装が期待されていると述べました。今年末までにチップファーストを生産する予定であるため、プロセス技術の収益への貢献は来年の第 1 四半期に明らかになるでしょう。 Fenye Innolux 氏は、今後 1 ~ 2 年以内に中級から高級製品向けの再配線層 (RDLFirst) プロセス技術を量産する予定であり、パートナーと協力して技術的に最も難しいガラス穴あけ加工の開発に取り組むと述べました ( TGV)プロセスにはさらに2〜3年かかりますが、1年以内に量産化できます。 Yang Zhuxiang 氏は、Innolux の FOPLP 技術は「量産の準備ができており」、ローエンドおよびミッドレンジの製品で市場に参入すると述べました。

4月17日の当サイトのニュースによると、TrendForceは最近、Nvidiaの新しいBlackwellプラットフォーム製品に対する需要は強気で、2024年にはTSMCのCoWoSパッケージング総生産能力が150%以上増加すると予想されるレポートを発表した。 NVIDIA Blackwell の新しいプラットフォーム製品には、B シリーズ GPU と、NVIDIA 独自の GraceArm CPU を統合する GB200 アクセラレータ カードが含まれます。 TrendForce は、サプライチェーンが現在 GB200 について非常に楽観的であることを確認しており、2025 年の出荷台数は 100 万台を超え、Nvidia のハイエンド GPU の 40 ~ 50% を占めると予想されています。 Nvidiaは今年下半期にGB200やB100などの製品を提供する予定だが、上流のウェーハパッケージングではさらに複雑な製品を採用する必要がある。

主な違いは、半導体読み出し専用メモリ ROM は情報を永続的に保存できるのに対し、半導体ランダム アクセス メモリ RAM は電源を切ると情報が失われることです。 ROM の特徴は、情報の読み取りのみで書き込みはできないこと、電源を切っても内容が失われることがなく、電源を入れると自動的に復元されることです。 RAMは読み書き速度が速いのが特徴ですが、最大の欠点は電源を切るとすぐに内容が消えてしまうことです。

12月27日の当サイトのニュースによると、韓国メディアETNewsによると、SKハイニックスは最近、コスト削減だけでなくESG(環境、社会、ガバナンス)管理も強化できる再利用可能なCMP研磨パッド技術を開発したという。 SKハイニックスは、「まず再利用可能なCMP研磨パッドをリスクの低い工程に導入し、段階的に適用範囲を拡大する予定だ」と明らかにした。必要な平面度を実現します。研磨液中の化学成分が材料表面と化学反応して研磨しやすい軟化層を形成し、研磨液中の研磨パッドと砥粒により物理的・機械的に材料表面を研磨して軟化層を除去します。出典: Dinglong の CM 株

日本経済新聞と日本の「時事通信」の報道を基にした本サイトの7月8日の報道によると、ソニーグループの半導体メーカーであるソニーセミコンダクタマニュファクチャリングカンパニーは現地時間8日(今日)、同社が有害な化学物質を工場外に排出したが、届出はなかった。同社は入力ミスと確認体制の不備が原因だとしている。熊本県菊陽町のカメラ画像センサー工場が2021、22年度に化学物質排出量を「0」と誤って報告していた。実態は「無害化処理されていない廃棄物」が排出されていた。この工場では、半導体の処理や洗浄に一般的に使用されるフッ化水素が排出されます。このサイトからの注記: フッ化水素は人体に有害であり、吸入すると呼吸器疾患や、場合によっては生命を脅かす症状を引き起こす可能性があります。ソニーハーフ

韓国のエレクトロニック・ニュース・トゥデイの報道によると、サムスンはASML極紫外(EUV)リソグラフィー装置の輸入を増やす計画であり、契約の機密保持条項には具体的な詳細は開示されていないが、証券市場ニュースによると、この協定により、 ASMLは5年間に計50セットの装備を提供する予定で、各装備の単価は約2000億ウォン(約11億2000万元)、総額は10兆ウォン(約551億元)に達する可能性がある。契約内容は現時点では不明 同製品は既存のEUV露光装置、または次世代「HighNAEUV」露光装置。しかし、現在のEUVリソグラフィー装置の最大の問題は出力の制限です。関係者によると、それは「衛星部品よりも複雑」で、毎年非常に限られた量しか生産できないという。によると

10月31日の本サイトのニュースによると、経済日報は業界関係者から、パイオニア・インターナショナル・セミコンダクター/ワールド・アドバンスト(VIS)が現在AUOのシンガポール工場と交渉中で、AUOが保有する土地と設備を取得し、AUOの建設に使用する交渉を行っていると伝えた。最初の12インチウェーハ工場。出典:AUO公式ウェブサイト パイオニア・インターナショナル・セミコンダクターは、主に自動車分野向けのチップの生産に20億米ドル(約146億4,000万元)を投資する計画であるとの報道によると、パイオニア・インターナショナル・セミコンダクターは11月7日に関連会議を開催する予定だという。 AUOは10月31日に関連会議を開催する予定だが、両社は関連する噂についてまだ正式なコメントを出していない。報道によると、AUOはシンガポールでの開発重点を製造から地域サービスセンターの設立まで段階的に撤退する予定であるという。このシンガポール工場は201年に設立されました。

IT House は 2 月 22 日、Intel が IFS DirectConnect イベントで将来のノード進化バージョンのパフォーマンス指標を明らかにしたと報告しました。各 PPA の増加は 10% を超えないということです。 IT ホームからのメモ: PPA は、Power/Performance/Area、消費電力、パフォーマンス、面積 (論理密度) の略で、この 3 つ全体が高度なプロセスのパフォーマンス基準として使用されます。インテルは、将来的に進化バージョンを発売することを確認しており、これらのバージョンを区別するために「P」、「T」、「E」という接尾辞を使用する予定です。これらのバージョンは、それぞれ「パフォーマンスの向上」、「3D スタッキング用のシリコン・ビア・テクノロジーによる」を表します。 「」と「機能拡張」。この動きにより、ユーザーにはさまざまなニーズを満たすためのより多くの選択肢が提供されます。 ▲インテル ファウンドリ: プロセス ロードマップ Anandtech
