フォトレジストの役割

フォトレジストは、回路設計パターンをウェーハに転写するために使用され、半導体製造における重要な材料です。受光部を現像液に不溶化し、パターン転写を実現する機能です。フォトレジストは感光性に応じてポジ型（回路ラインの作成に使用）とネガ型（回路スペースの作成に使用）に分けられます。集積回路、マイクロ電子デバイス、プリント基板、光学機器の製造などの分野で広く使用されています。

#フォトレジストの役割

フォトレジストは、半導体製造プロセスで集積回路を作るための鍵となる材料です。その機能は、回路設計パターンをウェーハに転写することです。

フォトレジストの原理

フォトレジストは、紫外線や電子線に感受性のある有機ポリマーです。光がフォトレジストに当たると、ポリマーが架橋され、現像液に不溶になります。照射されなかった部分は可溶性のままです。

フォトレジストの製造プロセス

フォトレジストの製造プロセスには次のステップが含まれます:

合成ポリマー
• 感光剤を追加します。
• ポリマーを溶媒に溶解します。
• フィルターと脱気を行います。
• ウエハー上にコーティングします。

フォトレジストの種類

フォトレジストの光に対する感度に応じて、ポジ型フォトレジストとネガ型フォトレジストに分けられます:

• ポジ型フォトレジスト: 照射後に形成されるポリマー現像液に溶けなくなり、回路線の作製に使用されます。
• ネガ型フォトレジスト: 照射後に形成されたポリマーは現像液に可溶となり、回路スペースの作成に使用されます。

# フォトレジストの用途

フォトレジストは次の分野で広く使用されています。

#集積回路製造

• マイクロ電子デバイス製造
• プリント基板製造
• 光学機器製造

以上がフォトレジストの役割の詳細内容です。詳細については、PHP 中国語 Web サイトの他の関連記事を参照してください。