소식통에 따르면 삼성전자는 EUV 노광 공정 개선을 위해 TEL의 Acrevia GCB 장비를 테스트하고 있다고 한다.

9월 3일 본 사이트의 보도에 따르면, 한국 언론 더일렉은 어제 삼성전자가 도쿄일렉트론(TEL)의 아크레비아 GCB 가스 클러스터 빔(본 사이트 참고: 가스 클러스터 빔) 시스템을 테스트하고 있다고 보도했다. TEL의 Acrevia GCB 시스템은 올해 7월 8일 출시되었습니다. 가스 클러스터 빔을 통해 EUV 리소그래피 패턴을 국부적으로 정확하게 형성하여 패턴 결함을 복구하고 패턴 거칠기를 줄일 수 있습니다.

업계 관계자들은 TEL의 Acrevia 시스템이 Applied Materials의 Centura Sculpta 시스템과 유사한 역할을 할 수 있다고 믿고 있습니다. 즉, EUV 노광 패턴을 직접 형성하고 비용이 많이 드는 EUV 다중 노출을 줄여 포토리소그래피 공정과 전반적인 수익성을 향상시킵니다.

또한 Acrevia 시스템을 사용하면 EUV 노광 오류의 약 절반을 차지하는 랜덤 오류를 제거하고 제품 수율을 향상시킬 수도 있습니다.

TEL 관계자에 따르면 아크레비아 시스템은 실제 고객들이 테스트 중이며 메모리 분야보다는 로직 파운드리에서 먼저 사용될 것으로 예상된다.

삼성전자는 앞서 4nm 공정에서 어플라이드 머티어리얼즈의 센츄라 스컬프타(Centura Sculpta)를 테스트한 데 이어, 이번에는 TEL의 장비도 테스트하고 있다. 양대 반도체 장비 업체 간 패턴 형성 수주 경쟁을 강화하기 위함이다.

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