기술 주변기기 IT산업 새로운 헤드라인: 삼성은 2024년 초에 차세대 NAND 메모리 양산을 시작할 계획입니다.

새로운 헤드라인: 삼성은 2024년 초에 차세대 NAND 메모리 양산을 시작할 계획입니다.

Oct 17, 2023 pm 06:21 PM
삼성 삼성전자

삼성전자는 오늘 메모리 칩의 최신 개발 진행 상황에 대한 소식을 발표하고 메모리 칩의 밀도 한계와 획기적인 소재 개발에 대한 야망을 보여주었습니다.

삼성전자 스토리지 사업부 이정배 사장은 삼성전자가 다음과 같이 말했습니다. 9세대 V낸드플래시 메모리 제품을 기반으로 제품을 생산해 왔으며 내년 초 양산을 시작할 계획이다. 또한 업계 최고 수준의 11nm급 DRAM 칩도 개발하고 있습니다.

삼성은 3D 적층 구조와 DRAM용 신소재를 개발하고 있습니다. 낸드플래시 메모리의 경우, 삼성전자는 적층 수를 늘리고 높이를 줄여 반도체 업계에서 가장 작은 셀 크기를 달성하고 있다. Ⅴ 낸드 칩 시대에는 새로운 구조와 신소재가 매우 중요해졌다. “AI 칩에 있어서 삼성전자의 중요성은 자명하다. 현재 회사는 HBM3 고성능 메모리 칩 생산을 시작했으며 차세대 HBM3E 칩도 개발 중입니다

Li Zhengpei는 삼성이 고객을 위한 맞춤형 HBM 칩을 생산하기를 희망한다고 말했습니다. 그는 "우리는 초대형 인공 지능과 같은 새로운 애플리케이션의 요구 사항을 충족하는 데 주력하고 있습니다. 다양한 요구 사항과 긴 리드 타임의 과제를 충족하기 위해 메모리 칩 생산 라인을 계속 발전시켜 나갈 것입니다."라고 말했습니다. 10월 20일 신규 생산라인 가동 2023년 삼성 메모리 기술의 날 행사가 오늘 실리콘밸리에서 개최됩니다. 그때 한국 칩 제조업체는 일부 최신 메모리 칩 기술과 제품을 출시할 예정입니다. 우리는 또한 더 많은 보고서를 가져올 것입니다

新标题:三星计划于 2024 年初开始大规模生产下一代 NAND 内存광고문: 기사에 포함된 외부 점프 링크(하이퍼링크, QR 코드, 비밀번호 등을 포함하되 이에 국한되지 않음)는 더 많은 정보를 전달하고 선택 시간을 절약하는 데 사용됩니다. 참고용이며 이 사이트의 모든 기사에는 이 내용이 포함되어 있습니다.

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8일 본 사이트 소식에 따르면 삼성전자는 2024 플래시 메모리 서밋(FMS)에서 PM1753, BM1743, PM9D3a, PM9E1 등 다양한 SSD 신제품을 시연했으며, 9세대 QLCV-NAND, TLCV-NAND, CMM-D –DRAM, CMM-HTM, CMM-HPM 및 CMM-BCXL 기술이 도입되었습니다. BM1743은 최대 용량 128TB, 연속 읽기 속도 7.5GB/s, 쓰기 속도 3.5GB/s, 랜덤 읽기 160만 IOPS, 쓰기 45,000 IOPS의 QLC 플래시 메모리를 채택했다. 2.5인치 폼팩터 및 U.2 인터페이스, 유휴 상태 전력 소비는 4W로 감소하고 후속 OTA 업데이트 후에는

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8월 17일 뉴스에 따르면, 출처 @ibinguniverse는 오늘 웨이보에 글을 올려, 애플 아이폰 16 프로 맥스의 정확한 크기는 6.88인치, 갤럭시 S25 울트라의 정확한 크기는 6.86인치로 둘 다 6.9인치로 간주할 수 있다고 밝혔습니다. . 소식통에 따르면 Samsung Galaxy S25 Ultra는 S24 Ultra보다 본체가 더 좁고 화면이 더 넓으며, 본체에 대한 가로 화면 비율이 94.1%인 반면, S24 Ultra의 본체에 대한 가로 화면 비율은 91.5%입니다. Fenye는 해당 소식통의 Weibo를 확인하면서 새로 노출된 iPhone 16 Pro Max 사진에 대해 댓글을 달았고, 휴대폰이 실제로는 직선 화면 + 2.5D 유리에 가깝다고 생각했습니다.

소식통에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스는 2026년 이후 적층형 모바일 메모리를 상용화할 것으로 보인다. 소식통에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스는 2026년 이후 적층형 모바일 메모리를 상용화할 것으로 보인다. Sep 03, 2024 pm 02:15 PM

3일 홈페이지 보도에 따르면 국내 언론 에트뉴스는 어제(현지시간) 삼성전자와 SK하이닉스의 'HBM형' 적층구조 모바일 메모리 제품이 2026년 이후 상용화될 것이라고 보도했다. 소식통에 따르면 두 한국 메모리 거대 기업은 적층형 모바일 메모리를 미래 수익의 중요한 원천으로 여기고 'HBM형 메모리'를 스마트폰, 태블릿, 노트북으로 확장해 엔드사이드 AI에 전력을 공급할 계획이라고 전했다. 이 사이트의 이전 보도에 따르면 삼성전자 제품은 LPWide I/O 메모리라고 하며 SK하이닉스는 이 기술을 VFO라고 부른다. 두 회사는 팬아웃 패키징과 수직 채널을 결합하는 것과 거의 동일한 기술 경로를 사용했습니다. 삼성전자 LPWide I/O 메모리의 비트폭은 512이다.

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8월 23일 뉴스에 따르면, 삼성전자는 9월 말 공개될 예정인 새로운 폴더블폰 W25를 출시할 예정이다. 이에 맞춰 언더스크린 전면 카메라와 본체 두께도 개선될 예정이다. 보도에 따르면, 코드명 Q6A인 삼성 W25에는 갤럭시 Z 폴드 시리즈의 400만 화소 카메라보다 향상된 500만 화소 언더 스크린 카메라가 장착될 예정입니다. 또한 W25의 외부 화면 전면 카메라와 초광각 카메라는 각각 1,000만 화소와 1,200만 화소가 될 것으로 예상된다. 디자인적으로 보면 W25는 접힌 상태에서 두께가 약 10mm로 표준형 갤럭시Z폴드6보다 약 2mm 얇아졌다. 화면 측면에서는 W25가 6.5인치 외부 화면과 8인치 내부 화면을 갖고 있는 반면, 갤럭시Z폴드6는 6.3인치 외부 화면과 8인치 내부 화면을 갖고 있다.

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16일 본 사이트 소식에 따르면 서울경제는 어제(15일) 삼성전자가 2024년 4분기부터 2025년 1분기 사이에 ASML로부터 첫 번째 High-NAEUV 노광기를 설치할 예정이라고 보도했다. 2025년 중반 상용화 예정. 보도에 따르면 삼성은 화성 캠퍼스에 최초의 ASMLTwinscanEXE:5000High-NA 리소그래피 기계를 설치할 예정이며, 이는 주로 로직 및 DRAM용 차세대 제조 기술을 개발하기 위한 연구 개발 목적으로 사용될 것입니다. 삼성전자는 High-NAEUV 기술을 중심으로 강력한 생태계를 구축할 계획이다. 삼성전자는 High-NAEUV 노광장비 확보에 더해 일본 Lasertec과 협력해 High-NAEUV 노광장비 전용 고-NAEUV 노광장비 개발도 진행 중이다.

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