Sumber mengatakan Samsung Electronics sedang menguji peralatan Acrevia GCB TEL untuk menambah baik proses litografi EUV

Menurut berita dari laman web ini pada 3 September, media Korea The Elec melaporkan semalam bahawa Samsung sedang menguji sistem rasuk kelompok gas Acrevia GCB Tokyo Electron (TEL) (nota tapak ini: Gas Cluster Beam). Sistem Acrevia GCB TEL telah dikeluarkan pada 8 Julai tahun ini Ia boleh membentuk corak litografi EUV secara tempatan dan tepat melalui rasuk kelompok gas, dengan itu membaiki kecacatan corak dan mengurangkan kekasaran corak.

Orang dalam industri percaya bahawa sistem Acrevia TEL boleh memainkan peranan yang sama dengan sistem Centura Sculpta Bahan Gunaan, iaitu, secara langsung membentuk corak pendedahan EUV, mengurangkan pendedahan berbilang EUV yang mahal, dan dengan itu memendekkan proses fotolitografi dan meningkatkan keuntungan keseluruhan.

Selain itu, sistem Acrevia juga boleh digunakan untuk menghapuskan ralat rawak, yang menyumbang kira-kira separuh daripada ralat litografi EUV dan meningkatkan hasil produk.

Sumber berkaitan TEL berkata bahawa bakal pelanggan sememangnya menguji sistem Acrevia, dan peranti itu dijangka akan digunakan terlebih dahulu dalam pengecoran logik dan bukannya dalam medan memori.

Samsung Electronics sebelum ini telah menguji Centura Sculpta Bahan Gunaan pada proses 4nm, dan kini ia sedang menguji peralatan TEL, bertujuan untuk mengukuhkan persaingan untuk pesanan membentuk corak antara dua pembekal peralatan semikonduktor utama.

Atas ialah kandungan terperinci Sumber mengatakan Samsung Electronics sedang menguji peralatan Acrevia GCB TEL untuk menambah baik proses litografi EUV. Untuk maklumat lanjut, sila ikut artikel berkaitan lain di laman web China PHP!