Peranan photoresist

Photoresist digunakan untuk memindahkan corak reka bentuk litar kepada wafer dan merupakan bahan utama dalam pembuatan semikonduktor. Fungsinya adalah untuk menjadikan bahagian penerima cahaya tidak larut dalam pembangun, dengan itu mencapai pemindahan corak. Mengikut fotosensitiviti, photoresist dibahagikan kepada positif (digunakan untuk membuat garis litar) dan negatif (digunakan untuk membuat ruang litar). Ia digunakan secara meluas dalam litar bersepadu, peranti mikroelektronik, papan litar bercetak dan pembuatan instrumen optik dan bidang lain.

Peranan photoresist

Photoresist ialah bahan utama yang digunakan untuk membuat litar bersepadu dalam proses pembuatan semikonduktor. Fungsinya adalah untuk memindahkan corak reka bentuk litar ke wafer.

Prinsip photoresist

Photoresist ialah polimer organik yang sensitif kepada cahaya ultraungu atau pancaran elektron. Apabila cahaya mengenai photoresist, polimer menjadi bersilang dan menjadi tidak larut dalam pembangun. Bahagian yang tidak disinari kekal larut.

Proses pembuatan photoresist

Proses pembuatan photoresist termasuk langkah-langkah berikut:

• Polymer sintetik
• Tambah photosensitizer
• Melarutkan polimer dalam pelarut
• ke atas wafer

Jenis photoresist

Mengikut sensitiviti photoresist kepada cahaya, ia boleh dibahagikan kepada photoresist positif dan photoresist negatif:

Positive light Resist: Polimer terbentuk selepas isoluble digunakan untuk membuat talian litar.
• Fotoresist negatif:
Polimer yang terbentuk selepas penyinaran menjadi larut dalam pemaju dan digunakan untuk mencipta ruang litar.
Aplikasi photoresist

Photoresist digunakan secara meluas dalam:

Pengilangan litar bersepadu

Pengilangan peranti mikroelektronik
• Pembuatan papan litar bercetak
• Pengilangan papan litar bercetak

Atas ialah kandungan terperinci Peranan photoresist. Untuk maklumat lanjut, sila ikut artikel berkaitan lain di laman web China PHP!