本站5月24日消息，據台媒「MoneyDJ理財網」報道，台積電高管在2024年技術論壇新竹場上稱，其採用Nanosheet奈米片（GAA晶體管）的2nm節點進展順利。
台積電聯席副COO 張曉強表示，台積電的2nm 製程進展「非常順利」：目前奈米片的「轉換表現」已達到目標90%，以良率計算也超過了80%。
台積電認為其 N2 製程在 2025 年推出時，將繼續成為代工業界最領先的技術。
另據外媒 Anandtech 整理，台積電將在 2025 下半年實現 N2 製程量產，同期還將帶來 3nm 家族中面向 HPC 應用的 N3X 過程。
N3X 製程擁有更高的1.2V 最大電壓，相較N3P 製程在相同頻率下功耗降低7%，在相同面積下效能提升5%，在相同頻率下密度提升10%。另據本站先前報道，該節點預計從今年開始接獲投片。
而在 2026 下半年，台積電將量產兩個 2nm 家族變體過程：N2P 和 A16。
N2P 製程將相較 N2 製程在相同頻率和密度下功耗降低 5~10%，在相同密度和功耗下效能提升 5~10%。
在 A16 節點，台積電將正式引入背面供電技術。此製程可在相同工作電壓下，頻率提升 8~10%；在相同頻率下功耗降低 15~20%，密度至高提升 10%。
以上是台積電：2nm 節點進展順利，2025 下半年推出 N3X、N2 製程的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章！
