本站5月24日消息,據台媒「MoneyDJ理財網」報道,台積電高管在2024年技術論壇新竹場上稱,其採用Nanosheet奈米片(GAA晶體管)的2nm節點進展順利。
台積電聯席副COO 張曉強表示,台積電的2nm 製程進展「非常順利」:目前奈米片的「轉換表現」已達到目標90%,以良率計算也超過了80%。
台積電認為其 N2 製程在 2025 年推出時,將繼續成為代工業界最領先的技術。
另據外媒 Anandtech 整理,台積電將在 2025 下半年實現 N2 製程量產,同期還將帶來 3nm 家族中面向 HPC 應用的 N3X 過程。
N3X 製程擁有更高的1.2V 最大電壓,相較N3P 製程在相同頻率下功耗降低7%,在相同面積下效能提升5%,在相同頻率下密度提升10%。另據本站先前報道,該節點預計從今年開始接獲投片。
而在 2026 下半年,台積電將量產兩個 2nm 家族變體過程:N2P 和 A16。
N2P 製程將相較 N2 製程在相同頻率和密度下功耗降低 5~10%,在相同密度和功耗下效能提升 5~10%。
在 A16 節點,台積電將正式引入背面供電技術。此製程可在相同工作電壓下,頻率提升 8~10%;在相同頻率下功耗降低 15~20%,密度至高提升 10%。
以上是台積電:2nm 節點進展順利,2025 下半年推出 N3X、N2 製程的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章!