英特爾再次確認未來 Intel 10A 節點，第二台 High NA EUV 微影機將至

本站 8 月 2 日消息，英特爾 CEO 帕特・基辛格在 2024 財年第二財季財報公佈後的投資者電話會議上再次確認了 Intel 10A 這一尚未正式官宣製程節點的存在。

他說：

除了 Intel 18A 外我們還在推進 Intel 14A 和 Intel 10A 的開發。

……

隨著我們將Intel 4 和3 的產能轉移到愛爾蘭（的量產晶圓廠），我們的TD（本站註：Technology Development，技術開發）團隊也能更加專注於18A、 14A、10A 節點的工作。

英特爾官方首次提到 Intel 10A 流程是在今年 2 月 IFS Direct Connect 大會上的一次閉門活動中。當時展示的幻燈片截圖顯示，Intel 10A 預計從 2028 年開始貢獻產能：

根據現有製程規劃，Intel 10A 將成為 Intel 14A 後英特爾第二代引入 High NA EUV 光刻的先進製程。

對於 Intel 14A，帕特・基辛格宣稱這一不早於 2025 年推出的工藝進展順利。

而在支援Intel 14A、10A 兩代製程的ASML High NA EUV 光刻機上，繼英特爾今年4 月完成全球首台商用High NA EUV 光刻機的組裝後，英特爾的第二台High NA EUV 光刻機也即將運抵俄勒岡州研發晶圓廠。

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