三星衝擊高階代工新挑戰：削減 High-NA EUV 光刻機採購、被曝中止和 ASML 合建研究中心

本站8 月20 日消息，韓媒businesskorea 今天（8 月20 日）發布博文，曝料稱三星計劃削減High-NA EUV 採購規模，而且和ASML 聯合創立研究中心項目也遇到諸多障礙。

修飾後內容：

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圖源：ASML三星於2023 年12 月和ASML 簽署了一份諒解備忘錄（MOU），將在韓國首都圈建立一個EUV 聯合研究中心。
本站援引消息來源報道，三星原本計劃在未來10 年內，採購Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和EXE:5600 三款後續Twinscan EXE:5000 High-NA光刻機，而最新報道稱三星已經通知ASML，不僅削減Twinscan EXE:5000 系列EUV 光刻機 採購數量，而且後續僅採購EXE:5200。
報告這項決定是在副董事長 Jun Young-hyun 被任命為 DS（設備解決方案）部門的新負責人，並重新審查正在進行的項目和投資之後做出的。
一位熟悉情況的業內人士說：
在京畿道華城購買土地建造研究設施的過程以及設計和審批過程都在進行中，然而，隨著三星決定減少設備引進，相關進程已完全停止。
聯合研究中心是否會在其他地方建立，或者建立本身是否會被取消，將在今後的討論中決定。

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