蘋果正在研發抗反射技術：將減少拍攝炫光等問題

4月16日的消息，國外部落客yeux1122的爆料指出，蘋果正在測試新的抗反射光學塗層技術，旨在減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，以提升照片品質。

1. 根據供應鏈消息，蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭製造製程中引入新的原子層沉積（ALD）設備。

2. 原子層沉積是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，透過將物質以單原子膜形式逐層鍍在基板表面的方式實現。
3. ALD是一種奈米技術，可以精確控制方式實現奈米級超薄薄膜沉積。

   

   相機鏡頭應用

ALD 製程主要用於相機鏡頭，具體來說是噴塗抗反射塗層，以減少攝影偽影。

1. 減少影像失真

當強光源（如太陽）直接照射鏡頭時，可能導致拍攝的影像出現條紋和光暈。 ALD 技術可以減少這些影像失真現象。

2. 保護鏡頭系統

ALD 應用材料還可以防止環境對相機鏡頭系統造成損害，同時不會影響感測器有效捕捉光線的能力。

1. 博文指出，蘋果計劃將該工藝應用於iPhone的Pro系列機型，可能會在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。

2. 編輯點評：iPhone用戶一直對光線反射所帶來的炫光和鬼影問題頭痛，蘋果研發這項新技術有望改善照片質量，減少炫光和偽影，為用戶帶來更出色的拍攝體驗。如果成功應用於iPhone上，將進一步鞏固蘋果在智慧型手機攝影領域的領先地位。

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