euv和duv區別：1、duv基本上只能做到25nm，而euv能滿足10nm以下的晶圓權製造；2、duv主要利用光的折射原理，而euv利用的光的反射原理，內部必須為真空操作。
本文操作環境：Windows7系統，Dell G3電腦。
euv和duv區別：
1、過程範圍不同
duv：基本上只能做到25nm， Intel憑藉著雙工作台的模式做到了10nm，卻無法達到10nm以下。
euv：能滿足10nm以下的晶圓權製造，並且還可以繼續向5nm、3nm延伸。
2、發光原理不同
duv：光源為準分子激光，光源的波長能達到193奈米。
euv：雷射激發等離子來發射EUV光子，光源的波長則為13.5奈米。
3、光路系統不同
duv：主要利用光的折射原理。其中，浸沒式微影機會在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。
euv：利用的光的反射原理，內部必須為真空操作。
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