光刻機是誰發明的

光刻機是法國人Nicephore niepce（尼埃普斯）於1822年發明的；起初是Nicephore niepce發現了一種能夠刻在油紙上的印痕，當其出現在了玻璃片上後，經過一段時間的曝曬，透光的部分就會變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。

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光刻機（lithography）又稱：光罩對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。

光刻機是誰發明的

#1822年法國人Nicephore niepce（尼埃普斯）發明了光刻機，起初是Nicephore niepce發現了一種能夠刻在油紙上的印痕，當其出現在了玻璃片上後，經過一段時間的暴曬，透光的部分就會變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。

儘管光刻機發明的時間較早，不過在其發明之後，並沒有在各行業領域之中被使用，直到第2世界大戰時，該技術應用於印刷電路板，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大的區別，在塑膠板上透過銅線路製作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子設備領域中最為關鍵的材料之一。

如今，光刻機已成為半導體生產製造的主要生產設備，也決定了整個半導體市場水平製程的象徵。

光刻機製造需要哪些技術

光刻機的製造系統非常複雜，有兩點至關重要，即精密零件和組裝技術。

1、精密零件

一台光刻機的製造需要數萬個精密零件。通常來說，一台光刻機的製造需要大約八萬個精密零件，而目前世界上最為先進的極紫外EUV光刻機所需要的製造零件更是高達十萬餘個。

一套完整的光刻機包括多個組成系統，主要包括曝光系統、自動對準系統、整機軟體系統等。其中，曝光系統更是包含了照明系統和投影物鏡。

在組成光科技的所有核心精準零件中，光學鏡頭、光學光源、雙工作台又可以說是核心中的核心。

擁有高數值孔徑的光學鏡頭是決定光刻機的解析度和閾值誤差能力。而解析度和套值誤差能力對於一台光刻機具有至關重要的重要性。而全世界最為先進的EUV極紫外光刻機唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產的鏡頭。

光刻機的光學光源所包含的光源波長是決定光刻機工業能力的重要部分。需要特別注意的是，光刻機所需的光源，必須具備體積小、功率高以及穩定的幾個特性。

比如說極紫外EUV微影機所使用的光源波長是僅只有13.5奈米的極紫外光，其所使用的光學系統極為複雜。

光刻機中所需的工作台系能夠影響光刻機運作過程中的精確度和產效，所含的綜合技術難度非常高。因為這種工作台中具有承載矽片來能夠完成光刻機運作過程中的一系列超精密的運動系統，其中包括上下片、對準、景圓面型測量、曝光等等。

2、組裝技術

一台光刻機不僅需要精密的零件，這些零件的組裝技術也至關重要。

當所有零件都準備就緒之後，接下來的組裝過程將直接影響一個光刻機的運作效能。現在光刻機主要生產商荷蘭ASML公司（中文譯名：阿斯麥爾）的生產過程本質上來說更像是零件組裝公司，因為ASML公司生產光刻機所需的將近90%的零件是從世界各地採購，其在世界上擁有超過五千家供應商。

換句話說，ASML公司之所以能夠在光刻機製造技術上打敗尼康以及佳能等其他光刻機生產對手，從而在全球光刻機製造和銷售市場上佔據領先地位，一個重要原因就是強大的組裝技術。

一家強大的光刻機組裝企業需要具有各種嫻熟的技術工人和各種組裝方面的知識產權，從而能夠清楚地明白各種精密元件如何組裝，進而通過他們嫻熟的操作和系統的知識來快速和精確的製造一台光刻機。

我國目前在光刻機的技術面，經過近二十年的關鍵技術攻克，已經取得長足發展。

從光刻機雙工作台來說，中國華卓精科與清華團隊生產聯合研發的雙工作台已經打破ASML的技術壟斷，至於光刻機的同步光源設備和光學鏡頭的技術也在哈工大等全國知名科研機構的潛心研究中獲得了快速發展。

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