本站9 月6 日消息，ASML 執行長Peter Wennink 最近在接受路透社採訪時表示，儘管供應商出現了一些阻礙，但公司仍會按照先前設定的計劃，在今年年底前交付High NA EUV 機器。
ASML 表示一台高數值孔徑EUV 微影（High-NA EUV）設備的體積和卡車相當，每台設備的售價超過3 億美元（本站備註：目前約21.9 億元），可以滿足一線晶片製造商的需求，可以在未來十年內製造更小、更好的晶片。
Wennink 表示部分供應商無法提高組件的數量和質量，因此導致了輕微的延誤，但整體而言這些困難都可以控制，承諾會在今年年底之前交付首台機器。
本站先前報導，對於後3nm 時代，ASML 及其合作夥伴正在開發一種全新的EUV 光刻機－Twinscan EXE:5000 系列，該系列機器將具有0.55 NA（高NA）的透鏡，解析度達8nm，從而在3 nm 及以上節點中盡可能避免雙重或是多重曝光。
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以上是ASML CEO 承諾在年底前交付首台 High-NA EUV 光刻機：體積和卡車相當，每台售價 3 億美元的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章！
