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三星計劃投資10兆韓元用於半導體設備並大量採購ASML EUV微影機

Nov 15, 2023 pm 12:33 PM
光刻機 三星 半導體 asml

三星計劃增加進口更多ASML極紫外線(EUV)光刻設備,這是根據韓國今日電子新聞的報道

三星计划投资10万亿韩元用于半导体设备并大量采购ASML EUV光刻机
##儘管合約中的保密條款並未透露具體細節,但根據證券市場的消息,本協議將使得ASML在五年內提供總共50套設備,每台設備的單價約為2000億韓元(約11.02億元) ,總價值可達10兆韓元(約551億元人民幣)

目前尚不清楚其合約中的產品是現有EUV 光刻設備還是下一代「High NA EUV」光刻設備。不過,目前 EUV 微影設備最大的問題是產量有限。根據官方介紹,它“比衛星部件還複雜”,每年只能生產很有限的數量。據說去年是 40 台,今年 ASML 估計是 60 台。而目前需要且能購買到 EUV 微影設備的廠商有五家:三星電子、台積電、英特爾、SK 海力士和美光。其中,台積電約佔供應量的 70%,剩下四家公司爭奪剩下的 30%。

三星電子於去年6 月推出了全球首個採用全閘極(GAA)技術的3nm 代工技術,因此該公司一直在努力確保採購更多 EUV 光刻設備,目標是在明年上半年進入3nm 世代的第二代工藝,在2025 年進入2nm 工藝,在2027 年進入1.4nm 工藝。

因此,李在鎔董事長去年六月前往ASML總部,與執行長Peter Bennink討論了EUV採購問題。在去年十一月訪問韓國期間,他與Bennink進一步會談。考慮到EUV的交付週期至少需要一年,這些會議似乎取得了實際成果

實際上,半導體領域分析師也對三星電子增購 EUV 光刻設備的計劃持積極態度。

祥明大學系統半導體工程教授李鍾煥表示:「三星已經引進了數十台EUV光刻設備,據說每台設備的成本約為2000億韓元,這表明該公司有意擴大3nm晶片的量產,並計劃在未來實現2nm的生產。」

三星電子之前宣布計劃到2025年擁有100台EUV光刻機。市場估計目前三星擁有約40台EUV機器。如果這50台設備能夠如期交付,那麼到2028年,三星將能夠擁有約100台設備

荷蘭應用科學研究所(TNO)的韓國代表樸炳勳解釋道:「一般情況下,半導體工藝可以將每台機器的10%用於製程研發和測試,擁有100台機器意味著它們可以全天候用於研發。」

他還指出,「透過這樣做,我們將能夠確保有足夠的製程能力來正確使用設備”,他補充說,“ 預計這將減少製程過程中的時間和成本,並提高產量。」

“一旦我們擁有了大量的(EUV)設備,並且技術趨於穩定,我們將能夠提高產量,並在代工方面取得進展” ,工業研究所的專家研究員金陽邦(Kim Yang-pang)說。

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