ASML 首台新 EUV 微影機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
光刻機製造商ASML宣布首台新款EUV微影機Twinscan NXE:3800E已成功安裝完畢，此新機型將帶來更高的生產效率。根據3月13日的消息稱，ASML公司取得了這一重要進展。
本站查詢發現，ASML 官網尚未上線Twinscan NXE :3800E 的資訊頁面。
除了正在研發的High-NA EUV 微影機Twinscan EXE 系列，ASML 也為其NXE 系列傳統數值孔徑EUV 微影機持續更新升級，未來目標在2025 年推出NXE:4000F機型。
上兩代NXE 系列機型3400C 和3600D 分別適合7~5、5~3 奈米節點生產，德媒ComputerBase 因此預測3800E 可望支援3~2 奈米的尖端製程 。
根據ASML 先前分享的2021 版路線圖，Twinscan NXE:3800E 系統將相較上代3600D 在對準精度（Overlay）和產能上進一步提升#，可實現195 片晶圓的每小時吞吐量，相較3600D 的160 片大幅提升近22%，並有望達到220 片的目標（對應提升37.5%）。
以上是ASML 首台新 EUV 微影機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章！
熱AI工具
Undresser.AI Undress
人工智慧驅動的應用程序，用於創建逼真的裸體照片
AI Clothes Remover
用於從照片中去除衣服的線上人工智慧工具。
Undress AI Tool
免費脫衣圖片
Clothoff.io
AI脫衣器
Video Face Swap
使用我們完全免費的人工智慧換臉工具，輕鬆在任何影片中換臉！
熱門文章
熱工具
記事本++7.3.1
好用且免費的程式碼編輯器
SublimeText3漢化版
中文版，非常好用
禪工作室 13.0.1
強大的PHP整合開發環境
Dreamweaver CS6
視覺化網頁開發工具
SublimeText3 Mac版
神級程式碼編輯軟體(SublimeText3)
ASML CEO 承諾在年底前交付首台 High-NA EUV 光刻機：體積和卡車相當，每台售價 3 億美元
Sep 18, 2023 pm 12:49 PM
本站9月6日消息，ASML執行長PeterWennink近日接受路透社採訪時表示，儘管供應商出現了一些阻礙，但公司仍會按照先前設定的計劃，在今年年底之前交付HighNAEUV機器。 ASML表示一台高數值孔徑EUV光刻（High-NAEUV）設備的體積和卡車相當，每台設備的售價超過3億美元（本站備註：目前約21.9億元人民幣），可以滿足一線晶片製造商的需求，可以在未來十年內製造更小、更好的晶片。 Wennink表示部分供應商無法提高組件的數量和質量，因此導致了輕微的延誤，但整體而言這些困難都可
ASML回應DUV光刻機出口認可問題：僅部分機型受限
Jul 01, 2023 pm 05:33 PM
7月1日消息，據小編了解，光刻機領導者ASML公司近日回應了關於其旗下DUV光刻機出口認可的問題，進一步澄清了相關規定和時間表。根據ASML的表態，出口管制條例僅適用於一些最新型號的DUV光刻機，特別是包括TWINSCANNXT:2000i及其後續推出的浸潤式微影系統。而EUV光刻機在之前已經受到了限制，其他類型的光刻機發運並未受到管控。 ASML強調，這項管制規定將於9月1日正式生效，而公司已經積極向相關部門提交了許可申請，以確保業務的正常進行。因此，在9月1日之前出貨的DUV光刻機不受影響，業
ASML 財務長 Dassen 回擊質疑：High-NA EUV 光刻仍是未來最經濟選擇，相關訂單穩定增加
Feb 02, 2024 pm 05:00 PM
本站2月2日訊息，ASML財務長RogerDassen近日接受了荷蘭當地媒體Bits&Chips的訪問。在訪談中，Dassen回應了分析機構SemiAnalysis的質疑，表示High-NA（高數值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機仍是未來最經濟的選擇。 SemiAnalysis先前發表文章，認為High-NA光刻技術將使用更高的曝光劑量，從而顯著降低單位時間內的晶圓吞吐量。這就意味著，相較於沿用現有的0.33NAEUV微影機並搭配多重曝光，引進High-NA在近期不會帶來成本優勢。 Dassen認
光刻機是誰發明的
Oct 09, 2022 pm 02:04 PM
光刻機是法國人Nicephore niepce（尼埃普斯）於1822年發明的；起初是Nicephore niepce發現了一種能夠刻在油紙上的印痕，當其出現在了玻璃片上後，經過一段時間的暴晒，透光的部分就會變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。
三星計劃投資10兆韓元用於半導體設備並大量採購ASML EUV微影機
Nov 15, 2023 pm 12:33 PM
三星計劃增加進口更多ASML極紫外線（EUV）光刻設備，這是根據韓國今日電子新聞的報道儘管合同中的保密條款沒有透露具體細節，但根據證券市場的消息，這項協議將使得ASML在五年內提供總共50套設備，每台設備的單價約為2000億韓元（約11.02億元），總價值可達10兆韓元（約551億元）目前尚不清楚其合約中的產品是現有EUV微影設備還是新一代「HighNAEUV」微影設備。不過，目前EUV微影設備最大的問題是產量有限。根據官方介紹，它“比衛星部件還複雜”，每年只能生產很有限的數量。據
ASML 首台新 EUV 微影機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
Mar 14, 2024 am 10:13 AM
光刻機製造商ASML宣布首台新款EUV光刻機TwinscanNXE:3800E已成功安裝完畢，此新機型將帶來更高的生產效率。根據3月13日的消息稱，ASML公司取得了這一重要進展。 ▲ASML在X平台上的相關動態本站查詢發現，ASML官網尚未上線TwinscanNXE:3800E的資訊頁。除了正在研發的High-NAEUV微影機TwinscanEXE系列，ASML也為其NXE系列傳統數值孔徑EUV微影機持續更新升級，未來目標在2025年推出NXE:4000F機型。上兩代NXE系列機型3400C和
佳能押注'奈米壓印”技術，價格比 ASML EUV 光刻機'少一位數”
Nov 06, 2023 am 09:33 AM
據報道，佳能公司於11月6日宣布，一直在投資新興的晶片製造技術奈米壓印（Nano-imprintLithography，NIL），併計劃將新型晶片製造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的一小部分之內，以此在微影機領域取得進展奈米壓印技術是極紫外光微影（EUV）技術的低成本替代品。佳能執行長御手洗富士夫(FujioMitarai)表示，該公司最新的奈米壓印技術將為小型晶片製造商生產先進晶片開闢出一條道路。 「這款產品的價格將比阿斯麥的EUV少一位數，」現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能
Counterpoint：2024Q1 全球前五晶圓設備廠商來自中國的營收年增 116%
Jun 20, 2024 pm 06:41 PM
本站6月20日消息，市場調查機構CounterpointResearch今天發布博文表示，由於客戶推遲了對前沿半導體的投資，2024年第1季度全球前五名晶圓設備（WFE）製造商的收入同比下降了9% 。本站註：前五名中，ASML營收季減21%、年減26%，KLA季減14%，較去年同期下降5%。與2023年相比，應用材料公司、LamResearch公司和KLA公司的營收季減為個位數。主要得益於中國DRAM出貨量的增加，2024年第1季前五大WFE製造商來自中國的營收年增116%。
