感謝網友 華南吳彥祖 的線索投遞！ 4 月16 日消息，消息源yeux1122 近日在其Naver 博客上曝料，表示從蘋果供應鏈處獲悉，蘋果正測試新的抗反射光學塗層技術，可以減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，從而提高照片品質。
供應鏈消息指出蘋果正在考慮在 iPhone 相機鏡頭製造流程中，引入新的原子層沉積（ALD）裝置。 原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，將物質以單原子膜形式逐層鍍在基板表面的方法。 ALD 是一種真正的奈米技術，以精確控制方式實現奈米級的超薄薄膜沉積。 
而具體到相機鏡頭方面，ALD 製程主要用來噴灑抗反射塗層，這有助於減少攝影偽影。例如當太陽等強光源直接照射鏡頭時，最終拍攝的影像中可能會出現條紋和光暈，而 ALD 可以減少這些影像失真現象。附上截圖如下：
此外，ALD 應用材料可防止環境對相機鏡頭系統造成損害，同時又不會影響感光元件有效捕捉光線的能力。 博文表示蘋果計劃將該工藝部署到 iPhone 的 Pro 機型中，可能會應用到 iPhone 16Pro 系列或明年的iPhone 17Pro系列上。 以上是消息指出蘋果正測試 ALD 工藝，為下一代 iPhone Pro 鏡頭添加抗反射光學塗層的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章！
