首页 科技周边 IT业界 Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116%

Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116%

Jun 20, 2024 pm 06:41 PM
asml 晶圆

本站 6 月 20 日消息,市场调查机构 Counterpoint Research 今天发布博文表示,由于客户推迟了对前沿半导体的投资,2024 年第 1 季度全球前五大晶圆设备(WFE)制造商的收入同比下降了 9%。

Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116%

本站注:在前五名中,ASML 收入环比分别下降 21%、同比下降 26%,KLA 环比下降 14%,同比下降 5%。与 2023 年相比,应用材料公司、Lam Research 公司和 KLA 公司的收入环比降幅为个位数。

主要得益于中国 DRAM 出货量的增加,2024 年第 1 季度前五大 WFE 制造商来自中国的收入同比增长 116%。物联网、汽车和 5G 等应用领域中的关键节点和成熟节点需求强劲,可能会在今年下半年持续。

2024 年第一季度,由于 NAND 支出增加以及人工智能日益普及带来的 DRAM 需求强劲,前五大 WFE 制造商的内存收入同比增长 33%。由于客户对尖端半导体的延迟投资,晶圆代工业务的收入同比下降了 29%。

以上是Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116%的详细内容。更多信息请关注PHP中文网其他相关文章!

本站声明
本文内容由网友自发贡献,版权归原作者所有,本站不承担相应法律责任。如您发现有涉嫌抄袭侵权的内容,请联系admin@php.cn

热AI工具

Undresser.AI Undress

Undresser.AI Undress

人工智能驱动的应用程序,用于创建逼真的裸体照片

AI Clothes Remover

AI Clothes Remover

用于从照片中去除衣服的在线人工智能工具。

Undress AI Tool

Undress AI Tool

免费脱衣服图片

Clothoff.io

Clothoff.io

AI脱衣机

Video Face Swap

Video Face Swap

使用我们完全免费的人工智能换脸工具轻松在任何视频中换脸!

热工具

记事本++7.3.1

记事本++7.3.1

好用且免费的代码编辑器

SublimeText3汉化版

SublimeText3汉化版

中文版,非常好用

禅工作室 13.0.1

禅工作室 13.0.1

功能强大的PHP集成开发环境

Dreamweaver CS6

Dreamweaver CS6

视觉化网页开发工具

SublimeText3 Mac版

SublimeText3 Mac版

神级代码编辑软件(SublimeText3)

ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 Sep 18, 2023 pm 12:49 PM

本站9月6日消息,ASML首席执行官PeterWennink近日在接受路透社采访时表示,尽管供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付HighNAEUV机器。ASML表示一台高数值孔径EUV光刻(High-NAEUV)设备的体积和卡车相当,每台设备的售价超过3亿美元(本站备注:当前约21.9亿元人民币),可以满足一线芯片制造商的需求,可以在未来十年内制造更小、更好的芯片。Wennink表示部分供应商无法提高组件的数量和质量,因此导致了轻微的延误,但整体而言这些困难都可

ASML回应DUV光刻机出口认可问题:仅部分型号受限 ASML回应DUV光刻机出口认可问题:仅部分型号受限 Jul 01, 2023 pm 05:33 PM

7月1日消息,据小编了解,光刻机领导者ASML公司近日回应了关于其旗下DUV光刻机出口认可的问题,进一步澄清了相关规定和时间表。根据ASML的表态,出口管制条例仅适用于一些最新型号的DUV光刻机,特别是包括TWINSCANNXT:2000i及其后续推出的浸润式光刻系统。而EUV光刻机在之前已经受到了限制,其他类型的光刻机发运并未受到管控。ASML强调,这一管制规定将于9月1日正式生效,而公司已经积极向相关部门提交了许可申请,以确保业务的正常进行。因此,在9月1日之前发货的DUV光刻机不受影响,业

ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择,相关订单稳步增加 ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择,相关订单稳步增加 Feb 02, 2024 pm 05:00 PM

本站2月2日消息,ASML首席财务官RogerDassen近日接受了荷兰当地媒体Bits&Chips的采访。在采访中,Dassen回应了分析机构SemiAnalysis的质疑,表示High-NA(高数值孔径)EUV(极紫外光)光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis之前刊发文章,认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于沿用现有的0.33NAEUV光刻机并搭配多重曝光,引入High-NA在近期不会带来成本优势。Dassen认

三星计划投资10万亿韩元用于半导体设备并大量采购ASML EUV光刻机 三星计划投资10万亿韩元用于半导体设备并大量采购ASML EUV光刻机 Nov 15, 2023 pm 12:33 PM

三星计划增加进口更多ASML极紫外(EUV)光刻设备,这是根据韩国今日电子新闻的报道尽管合同中的保密条款没有透露具体细节,但根据证券市场的消息,这项协议将使得ASML在五年内提供总共50套设备,每台设备的单价约为2000亿韩元(约合11.02亿元人民币),总价值可达10万亿韩元(约合551亿元人民币)目前尚不清楚其合同中的产品是现有EUV光刻设备还是下一代“HighNAEUV”光刻设备。不过,目前EUV光刻设备最大的问题是产量有限。据官方介绍,它“比卫星部件还复杂”,每年只能生产很有限的数量。据

可减少昂贵 EUV 光刻使用,德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用 可减少昂贵 EUV 光刻使用,德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用 Feb 05, 2024 pm 02:40 PM

本站2月5日消息,德国默克公司高级副总裁AnandNambier近日在新闻发布会上称,未来十年DSA自组装技术将实现商用化,可减少昂贵的EUV图案化次数,成为现有光刻技术的重要补充。本站注:DSA全称为Directedself-assembly,其利用嵌段共聚物的表面特征实现周期性图案的自动构造,在此基础上加以诱导,最终形成方向可控的所需图案。一般认为,DSA不适合作为一项独立的图案化技术使用,而是与其他图案化技术(如传统光刻)结合来生产高精度半导体。▲AnandNambier在发布会上。图源T

台积电熊本厂计划在2024年4月开始生产,预计Q4实现大规模量产,达到每月产能5.5万片12英寸晶圆 台积电熊本厂计划在2024年4月开始生产,预计Q4实现大规模量产,达到每月产能5.5万片12英寸晶圆 Dec 18, 2023 pm 09:25 PM

台积电正在建设的熊本县第一工厂计划于明年2月下旬举行开业典礼,并计划在二季度(4至6月)进入生产筹备的最后阶段根据日经新闻报道,台积电的日本子公司(JASM)的社长堀田佑一表示,台积电在熊本的工厂建设进展顺利,即将竣工。他们计划在10月开始进行设备导入和安装等工作。预计台积电熊本工厂将于2024年4月投入生产,第四季度开始批量生产,月产能将达到5.5万片12英寸晶圆在提到供应链合作伙伴时,他指出除了台积电已有的供应商外,还有120家日本企业加入了合作。目前,日本企业在供应链中的采购比重约为25%

富士康打造 AI 一条龙服务,投资的夏普进军半导体先进封装:2026 投产、设计月产 2 万片晶圆 富士康打造 AI 一条龙服务,投资的夏普进军半导体先进封装:2026 投产、设计月产 2 万片晶圆 Jul 18, 2024 pm 02:17 PM

本站7月11日消息,经济日报今天(7月11日)报道,富士康集团已进军先进封装领域,重点布局时下主流的面板级扇出封装(FOPLP)半导体方案。1.继旗下群创光电(Innolux)之后,富士康集团投资的夏普(Sharp)也宣布进军日本面板级扇出式封装领域,预计将于2026年投产。富士康集团在AI领域本身就有足够的影响力,而补上先进封装短板之后让其可以提供“一条龙”服务,便于后续接受更多的AI产品订单。本站查询公开资料,富士康集团目前持有夏普10.5%的股权,该集团表示现阶段不会增持,也不会减持,将维

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装 ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装 Mar 14, 2024 am 10:13 AM

光刻机制造商ASML宣布首台新款EUV光刻机TwinscanNXE:3800E已成功安装完毕,此新机型将带来更高的生产效率。根据3月13日的消息称,ASML公司取得了这一重要进展。▲ASML在X平台上的相关动态本站查询发现,ASML官网尚未上线TwinscanNXE:3800E的信息页面。除了正在研发的High-NAEUV光刻机TwinscanEXE系列,ASML也为其NXE系列传统数值孔径EUV光刻机持续更新升级,未来目标在2025年推出NXE:4000F机型。上两代NXE系列机型3400C和

See all articles