首页 科技周边 IT业界 ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

Mar 14, 2024 am 10:13 AM
光刻机 asml

光刻机制造商ASML宣布首台新款EUV光刻机Twinscan NXE:3800E已成功安装完毕,此新机型将带来更高的生产效率。根据3月13日的消息称,ASML公司取得了这一重要进展。

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
▲ ASML 在 X 平台上的相关动态

本站查询发现,ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面

除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径 EUV 光刻机持续更新升级,未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型

上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产,德媒 ComputerBase 因此预测 3800E 有望支持 3~2 纳米的尖端制程

根据 ASML 此前分享的 2021 版路线图,Twinscan NXE:3800E 系统将相较上代 3600D 在对准精度(Overlay)和产能上进一步提升,可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量,相较 3600D 的 160 片大幅提升近 22%,并有望达到 220 片的目标(对应提升 37.5%)。

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
▲ 2021 年版 ASML 光刻机路线图。图源 ASML,下同

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

以上是ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装的详细内容。更多信息请关注PHP中文网其他相关文章!

本站声明
本文内容由网友自发贡献,版权归原作者所有,本站不承担相应法律责任。如您发现有涉嫌抄袭侵权的内容,请联系admin@php.cn

热AI工具

Undresser.AI Undress

Undresser.AI Undress

人工智能驱动的应用程序,用于创建逼真的裸体照片

AI Clothes Remover

AI Clothes Remover

用于从照片中去除衣服的在线人工智能工具。

Undress AI Tool

Undress AI Tool

免费脱衣服图片

Clothoff.io

Clothoff.io

AI脱衣机

AI Hentai Generator

AI Hentai Generator

免费生成ai无尽的。

热门文章

R.E.P.O.能量晶体解释及其做什么(黄色晶体)
4 周前 By 尊渡假赌尊渡假赌尊渡假赌
R.E.P.O.最佳图形设置
4 周前 By 尊渡假赌尊渡假赌尊渡假赌
R.E.P.O.如果您听不到任何人,如何修复音频
4 周前 By 尊渡假赌尊渡假赌尊渡假赌
WWE 2K25:如何解锁Myrise中的所有内容
1 个月前 By 尊渡假赌尊渡假赌尊渡假赌

热工具

记事本++7.3.1

记事本++7.3.1

好用且免费的代码编辑器

SublimeText3汉化版

SublimeText3汉化版

中文版,非常好用

禅工作室 13.0.1

禅工作室 13.0.1

功能强大的PHP集成开发环境

Dreamweaver CS6

Dreamweaver CS6

视觉化网页开发工具

SublimeText3 Mac版

SublimeText3 Mac版

神级代码编辑软件(SublimeText3)

ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 Sep 18, 2023 pm 12:49 PM

本站9月6日消息,ASML首席执行官PeterWennink近日在接受路透社采访时表示,尽管供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付HighNAEUV机器。ASML表示一台高数值孔径EUV光刻(High-NAEUV)设备的体积和卡车相当,每台设备的售价超过3亿美元(本站备注:当前约21.9亿元人民币),可以满足一线芯片制造商的需求,可以在未来十年内制造更小、更好的芯片。Wennink表示部分供应商无法提高组件的数量和质量,因此导致了轻微的延误,但整体而言这些困难都可

ASML回应DUV光刻机出口认可问题:仅部分型号受限 ASML回应DUV光刻机出口认可问题:仅部分型号受限 Jul 01, 2023 pm 05:33 PM

7月1日消息,据小编了解,光刻机领导者ASML公司近日回应了关于其旗下DUV光刻机出口认可的问题,进一步澄清了相关规定和时间表。根据ASML的表态,出口管制条例仅适用于一些最新型号的DUV光刻机,特别是包括TWINSCANNXT:2000i及其后续推出的浸润式光刻系统。而EUV光刻机在之前已经受到了限制,其他类型的光刻机发运并未受到管控。ASML强调,这一管制规定将于9月1日正式生效,而公司已经积极向相关部门提交了许可申请,以确保业务的正常进行。因此,在9月1日之前发货的DUV光刻机不受影响,业

ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择,相关订单稳步增加 ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择,相关订单稳步增加 Feb 02, 2024 pm 05:00 PM

本站2月2日消息,ASML首席财务官RogerDassen近日接受了荷兰当地媒体Bits&Chips的采访。在采访中,Dassen回应了分析机构SemiAnalysis的质疑,表示High-NA(高数值孔径)EUV(极紫外光)光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis之前刊发文章,认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于沿用现有的0.33NAEUV光刻机并搭配多重曝光,引入High-NA在近期不会带来成本优势。Dassen认

光刻机是谁发明的 光刻机是谁发明的 Oct 09, 2022 pm 02:04 PM

光刻机是法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)于1822年发明的;起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。

三星计划投资10万亿韩元用于半导体设备并大量采购ASML EUV光刻机 三星计划投资10万亿韩元用于半导体设备并大量采购ASML EUV光刻机 Nov 15, 2023 pm 12:33 PM

三星计划增加进口更多ASML极紫外(EUV)光刻设备,这是根据韩国今日电子新闻的报道尽管合同中的保密条款没有透露具体细节,但根据证券市场的消息,这项协议将使得ASML在五年内提供总共50套设备,每台设备的单价约为2000亿韩元(约合11.02亿元人民币),总价值可达10万亿韩元(约合551亿元人民币)目前尚不清楚其合同中的产品是现有EUV光刻设备还是下一代“HighNAEUV”光刻设备。不过,目前EUV光刻设备最大的问题是产量有限。据官方介绍,它“比卫星部件还复杂”,每年只能生产很有限的数量。据

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装 ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装 Mar 14, 2024 am 10:13 AM

光刻机制造商ASML宣布首台新款EUV光刻机TwinscanNXE:3800E已成功安装完毕,此新机型将带来更高的生产效率。根据3月13日的消息称,ASML公司取得了这一重要进展。▲ASML在X平台上的相关动态本站查询发现,ASML官网尚未上线TwinscanNXE:3800E的信息页面。除了正在研发的High-NAEUV光刻机TwinscanEXE系列,ASML也为其NXE系列传统数值孔径EUV光刻机持续更新升级,未来目标在2025年推出NXE:4000F机型。上两代NXE系列机型3400C和

佳能押注'纳米压印”技术,价格比 ASML EUV 光刻机'少一位数” 佳能押注'纳米压印”技术,价格比 ASML EUV 光刻机'少一位数” Nov 06, 2023 am 09:33 AM

据报道,佳能公司于11月6日宣布,一直在投资新兴的芯片制造技术纳米压印(Nano-imprintLithography,NIL),并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的一小部分之内,以此在光刻机领域取得进展纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(FujioMitarai)表示,该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数,”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能

Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116% Counterpoint:2024Q1 全球前五晶圆设备厂商来自中国的收入同比增长 116% Jun 20, 2024 pm 06:41 PM

本站6月20日消息,市场调查机构CounterpointResearch今天发布博文表示,由于客户推迟了对前沿半导体的投资,2024年第1季度全球前五大晶圆设备(WFE)制造商的收入同比下降了9%。本站注:在前五名中,ASML收入环比分别下降21%、同比下降26%,KLA环比下降14%,同比下降5%。与2023年相比,应用材料公司、LamResearch公司和KLA公司的收入环比降幅为个位数。主要得益于中国DRAM出货量的增加,2024年第1季度前五大WFE制造商来自中国的收入同比增长116%。

See all articles