国外博主yeux1122的爆料指出,苹果正在测试新的抗反射光学涂层技术,旨在减少镜头炫光和鬼影等伪影,以提升照片质量。
根据供应链消息,苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中引入新的原子层沉积(ALD)设备。
原子层沉积是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术,通过将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方式实现。ALD是一种纳米技术,可以以精确控制方式实现纳米级超薄薄膜沉积。
具体到相机镜头方面,ALD工艺主要用于喷涂抗反射涂层,有助于减少摄影伪影。例如,当强光源如太阳直接照射镜头时,可能导致拍摄的图像出现条纹和光晕,而ALD技术可以减少这些图像失真现象。
此外,ALD应用材料还可以防止环境对相机镜头系统造成损害,同时不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
博文指出,苹果计划将该工艺应用于iPhone的Pro系列机型,可能会在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。
编辑点评:
iPhone用户一直对光线反射所带来的各种炫光和鬼影问题而头痛,苹果研发这一新技术有望改善照片质量,减少炫光和伪影,为用户带来更出色的拍摄体验。
如果成功应用于iPhone上,将进一步巩固苹果在智能手机摄影领域的领先地位。
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